誰知道等離子去膠機的原理?

2025-07-28 01:46:45 字數 2374 閱讀 3900

1樓:網友

等離子去膠法,去膠氣體為氧氣。其工作原理是將矽片置於真空反應系統中,通入少量氧氣,加1500 v高壓,由高頻訊號發生器產生高頻訊號,使石英管內形成強的電磁場,使氧氣電離,形成氧離子、活化的氧原子、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱。活化氧(活潑的原子態氧)可以迅速地將聚醯亞胺膜氧化成為可揮發性氣體,被機械幫浦抽走,這樣就把矽片上的聚醯亞胺膜去除了。

等離子去膠的優點是去膠操作簡單、去膠效率高、表面乾淨光潔、無劃痕、成本低、環保。

電介質等離子體刻蝕裝置一般使用電容耦合等離子體平行板反應器。在平行電極反應器中,反應離子刻蝕腔體採用了陰極面積小,陽極面積大的不對稱設計,被刻蝕物是被置於面積較小的電極上。在射頻電源所產生的熱運動作用下帶負電的自由電子因質量小、運動速度快,很快到達陰極;而正離子則由於質量大,速度慢不能在相同的時間內到達陰極, 從而使陰極附近形成了帶負電的鞘層。

正離子在鞘層的加速下,垂直轟擊矽片表面,加快表面的化學反應及反應生成物的脫離,導致很高的刻蝕速率。離子轟擊也使各向異性刻蝕得以實現等離子體去膠的原理和等離子體刻蝕的原理是一致的。不同的是反應氣體的種類和等離子體的激發方式。

等離子去膠可以研究什麼

2樓:網友

等離子去膠機主要原材料、燃料**。

一)主要原材料**。

1、主要原材料品種、質量與年需要量。

2、主要輔助材料品種、質量與年需要量。

3、原材料、輔助材料**於運輸方式。

二)燃料**。

三)主要原材料、燃料**。

四)編制主要原材料、燃料年需求量表。

等離子去膠機des-212相關的資料

3樓:網友

很老的產品了吧。可以參看。

看看最新的微波等離子去膠機相關資料。

爆屏修復冷凍去膠機的原理

4樓:匿名使用者

您是意思是你想買套裝置然後去做壓屏還是你想去賣裝置?或者說其他?

如果買套裝置去做壓屏這個就要看地域性了,現在大城市已經接近飽和,小地方估計比大城市要好做。

如果你是要賣裝置,這個就需要考慮你有啥特殊的渠道了,現在廠家那麼多。

要裝置/我提供,

感應耦合等離子體刻蝕機工作原理是什麼?

5樓:網友

利用icp產生高密度等離子體,等離子體中的活性基團或者離子與所需刻蝕的材料發生化學反應,並去除;一般在刻蝕的過程中同時也伴隨著物理轟擊,並把相應的鍵能開啟,從而加速反應的程序。

誰知道等離子電解拋光裝置的工作原理,能不能加工小工件的不鏽鋼?

6樓:網友

領公升金屬電解拋光裝置。

電解拋光的原理。

電解拋光裝置是在特定的溶液中進行陽極處理,使金屬表面平滑併產生金屬光澤的工藝過程。

電拋光後零件效能的變化:

並可以提高零件的抗蝕性、表面的反光能力,同時又可以使金屬的電子冷發射能力降低。

電解拋光的特點:

1.適於對形狀複雜,線材,薄板和細小零件的拋光。

2.生產效率高。

3.電解過程中有氧析出,會使被拋光表面形成一層氧化膜,更提高其抗蝕性。

電解拋光與機械拋光的比較:

機械拋光是對被拋光表面進行磨削變形而得到平滑表面的程序。這樣在工件表面有一層冷卻硬化的變形層,同時還會夾雜一些拋光時剩下殘餘的磨料。

電解拋光則是通過電解化學溶解使被拋光表面得到整平的過程,表面沒有變形層產生,也不會夾雜外來物質。

但無法除去零件表面的深劃痕,麻點等表面缺陷。

7樓:

1、工作原理目前還沒有很完美的解釋 也就是說缺乏理論支援2、可加工小型的不鏽鋼件 完全沒有問題。

3、最重要的是溶液的配方。

4、等離子拋光和電解拋光是不一樣的 這個需要注意。

雙組份灌膠機的工作原理是什麼?

8樓:路口等收費

現在電源,電阻在電子行業得到了廣泛的應用,然而,傳統的人工灌膠存在很多劣勢:

1.膠量不均勻,完全手工操作,配比不準,膠量不均勻,造成部分燈腳未被封住,使產品合格率降低。

2.人工灌膠速度慢,產量提不起來。

3.人工招聘、管理難度大。

4.純人工造成的膠水浪費大。

騰洲雙組分灌膠機本機器可以完全解決以上問題,能為客戶節省成本,提高產品質量和產量,成為客戶邁向高效率生產的重要工具。

9樓:網友

雙組份灌膠機原理:膠水由ab桶單獨存放然後通過ab幫浦根據需要的引數計量,經由ab管路流入雙液閥,膠水在此處才開始混合,混合好的膠水在灌到產品上!

等離子的原理,等離子的工作原理 ?

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誰知道乾冰原理

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有誰知道空調的製冷原理

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