多弧離子反應鍍膜裝置可以鍍出什麼色彩?

2025-03-27 19:05:16 字數 3891 閱讀 5479

1樓:江西國材科技****

多弧離子反應鍍膜裝置可以通過調節工藝引數和使用不同的靶材料來鍍制多種不同顏色的膜層。以下是一些常見的顏色和適用的靶材料:

1. 金色/黃色 膜層: 一般使用鈦(ti)靶材或碳化矽(sic)靶材。

2. 紅色圓虛旦 膜層: 通常使用氧化鋁譽培(al2o3)靶材或氮化鎢(wn)靶材。

3. 紫色 膜層: 通常使用氧化鎢(wo3)靶材或氮化鎢(wn)靶材。

4. 藍色/綠色 膜層: 通常使用二氧化鈦(tio2)靶材或氧化銅(cu2o)靶材。

5. 灰色/黑色 膜層: 通常使用碳(c)靶材或氮化硼(bn)靶材。

需要注意的是,實際操作過程中,工藝引數的設定和靶材的選擇可能與上述簡要介紹略有不同,因此在具體操作前需要根據實際情況進行進一步瞭解和優化。同時,不同廠家的裝置可能會有不橘擾同的適用顏色,因此在選擇裝置時需要注意確認其適用範圍與您的需求是否匹配。

總之,多弧離子反應鍍膜裝置可以製備出多種不同顏色的膜層,但具體操作所需的引數和靶材需要根據不同情況進行綜合考慮。

多弧離子鍍膜工作原理

2樓:江西國材科技****

多弧離子鍍膜是一種通過電弧放電和離子轟擊的原理,在基材表面沉積出金屬膜的技術。其基本工作原理如下:

1. 準備工作:將靶材(通常為金屬)放置在真空室內,然後抽取空氣,製造出高真空環境。

2. 電弧放電:使用高能量直流脈衝等方式加熱靶材,引起金屬表面產生高溫等離子體,並將金屬原子和離子釋放到真空室中。

3. 離子轟擊:通過調節離子加速器和磁控系統,使釋放的金屬離子在真空室中形成離子束,並以較高的能量轟擊基底表面。

在離子轟擊的作用下,基底表面的原子得到激發,與金屬離子之間發生反應,從而沉積出厚度微公尺到數百微公尺不等的純金屬膜層。注意:在多弧塵戚離子鍍膜的過程中,也可以新增其他氣體或化合物來製備複合膜層,使金屬膜層具有多種特殊性質。

4. 結束工作:完成離子轟擊後,停止加熱桐慎靶材,將沉積在基底表面的薄膜脫離真空室。

多弧離子鍍膜具有高純度、高緻密度、厚度均勻性好等特點,同時還可以製備出不同局兄敬顏色、不同組成的複合膜層,因此被廣泛應用於光學、電子、機械等領域。

3樓:匿名使用者

多弧陰極根據靶材的不同,能夠穩定工作的電流是不一樣的,例如:如果是cr靶,可以在60a左右就可以穩定工作,ti靶在70a左右可以穩定工作,zr的穩弧電流稍高一些,大約在100a左右,陰極的工作電壓在20v-30v之間。 鍍膜時,比如你要做tic黑膜,就必須選用ti靶,ti的工作電流在70a,工作電壓在25v左右殲豎,需要向氏念大真空室內充入c2h2氣體,鍍膜時的真高悶空度要保持在左右,一般情況下,是用分子幫浦或者擴散幫浦來抽取這些氣體,使得真空室保持一定的壓力,此時的滑閥幫浦和羅茨幫浦充當分子幫浦或者擴散幫浦的前級幫浦,是一直要開著的。

真空多弧離子鍍膜產品兩面顏色不一樣是什麼原因?

4樓:

摘要。真空多弧離子鍍膜產品兩面顏色不一樣是什麼原因?您好親,產品質量的原因,很多鍍膜的眼鏡,如果膜的質量不好,很容易形成凸凹不等的花紋或線條;2)摔碰產生的花紋,如眼鏡掉到地下,與地面擦碰,在鏡面上形成凹點,或擦出條紋;3)擦拭產生的條紋,眼鏡髒了,清潔的過程中,由於不注意方法,導致在鏡面產生凸凹點,或條紋,特別是鍍膜的鏡面非常容易產生花紋。

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真空多弧離子鍍膜加什麼氣體才能把顏色鍍成紅色

5樓:

摘要。您好親親,很高興為您解答問題。

真空多弧離子鍍膜能否鍍出紅色,主要還在膜層結構和反應氣體上,我們使用的銅靶、鋁靶、鋼靶、鈦靶、合金鋁靶、都是可以鍍出紅色的,工作氣體為氬氣,反應氣體是氧氣、氮氣、乙炔、甲烷、等都可以。工作氣體為氬氣,反應氣體用乙炔,甲烷,其中甲烷效果會更好點呢。

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真空多弧離子鍍膜加什麼氣體才能把顏色鍍成紅色

6樓:

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用鐵靶用什麼氣體。

工作氣體為氬氣,反應氣體用乙炔,甲烷,其中甲烷效果會更好點。

用氬氣和甲烷嗎?

對的。鐵靶用氧氣能鍍橙紅色嗎?

鐵靶(不鏽鋼靶) 氬氣+氧氣濺射 紫紅色是紫紅色,不是橙紅色。

真空多弧離子鍍膜產品兩面顏色不一樣是什麼原因?

7樓:

摘要。造成產品兩面色差的原因有好多,1.鍍膜工藝調整,2.檢查是否有漏氣。3.產品裝得太密。4.產品放氣量大,5.真空鍍膜機抽速慢。

造成產品兩面談橡色差的原因有好多,1.鍍膜工藝調整,2.檢查是否有漏氣。3.產品裝得太密。4.產含鎮旁品放氣量大,5.真旅鬧空鍍膜機抽速慢。

加熱抽速變慢,不加熱抽速變快,啥原因。

加熱太快,公升溫大快,會使所測熔點資料偏高,熔程大,所以加熱行旁不能太快。這一方面是為了保證有充分的時間讓熱量由管外傳至管內,以使固體熔化。另一方面因觀察者模橡不能同時觀察溫度計所示度數和樣品的變化情況,只有緩慢加熱才檔碼橡能使此項誤差變小。

多弧離子鍍膜的主要特點有哪些

8樓:桐華小智

真空條件下,採用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離,層積在被鍍產品上形成的金屬膜。

多弧離子鍍的原理

9樓:睢鳩運菱

離子鍍是真空室中,利用氣體放電或被蒸發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時,將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來,不僅能明顯地改進了膜質量,而且還擴大了薄膜的應用範圍。其優點是薄膜附著力強,繞射性好,膜材廣泛等。

首次提出離子鍍原理,起工作過程是:

先將真空室抽至4×10(-3)帕以上的真空度,再接通高壓電源,在蒸發源與基片之間建立乙個低壓氣體放電的低溫等離子區。基片電極接上5kv直流負高壓,從而形成輝光放電陰極。輝光放電區產生的惰性氣體離子進入陰極暗區被電場加速並轟擊基片表面,對其進行清洗。

然後進入鍍膜過程,加熱使鍍料氣化,起原子進入等離子區,與惰性氣體離子及電子發生碰撞,少部分產生離化。離化後的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面,致使膜層質量得到改善。

然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多弧離子鍍採用的是弧光放電,而並不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說,多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源,通過靶與陽極殼體之間的弧光放電,使靶材蒸發,從而在空間中形成等離子體,對基體進行沉積。

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