氦氖鐳射器的原理,結構,應用,誰能給我詳細的介紹一下

2021-08-17 16:09:06 字數 6658 閱讀 8586

1樓:匿名使用者

鐳射器一般由三個部分組成:(1)能實現粒子數反轉的工作物質。氦氖鐳射器中,通過氦原子的協助,使氖原子的兩個能級實現粒子數反轉;(2)光泵:

通過強光照射工作物質而實現粒子數及轉的方法稱為光泵法。例如紅寶石鐳射器,是利用大功率的閃光燈照射紅寶石(工作物質)而實現粒子數反轉。造成了產生鐳射的條件;(3)光學共振腔:

最簡單的光學共振腔是由放置在氦氖鐳射器兩端的兩個相互平行的反射鏡組成。當一些氖原子在實現了粒子數反轉的兩能級間發生躍遷,輻射出平行於鐳射器方向的光子時,這些光子將在兩反射鏡之間來回反射,於是就不斷地引起受激輻射,很快地就產生出相當強的鐳射。這兩個互相平行的反射鏡,一個反射率接近100%,即完全反射。

另一個反射率約為98%,鐳射就是從後一個反射鏡射出的

這些知識得有相應的原子物理和量子力學知識才能理解。

應用很廣泛,有測量。鐳射照排,鐳射**等等。

2樓:匿名使用者

原理結構我不知道,但是我用過這個東西,好像是可以促進細胞生長,還有殺菌的作用。燒傷的創面用這個照射。

氦氖鐳射器工作原理

3樓:月似當時

氦氖鐳射器工作原理是氖原子,不同能級的受激輻射躍遷將產生不同波長的鐳射,主要有632.8nm、1.15um和3.

39um三個波長。氦原子有兩個亞穩態能級21s0、23s1,它們的壽命分別為5×10-6s和10-4s,在氣體放電管中,在電場中加速獲得一定動能的電子與氦原子碰撞,並將氦原子激發到21s0、23s1,此兩能級壽命長容易積累粒子。

原子能量的增加(或減少),不是爬坡式的漸變,而是階梯式的躍變。即由一個能態跳到另一能態,稍事停留,再進一步躍遷。這些「階梯」,在一定條件下,能量值是固定的,稱為能級。

原子在特定的兩能級間躍遷,輻射的光子頻率是固定的。

如氖原子從2s能級躍遷到2p能級時,會輻射波長1.15微米的光波(2s、2p為能級符號,不代表能量值)。

純氖氣的這種自發輻射效率極低。因為每個原子所受的碰撞不同,會躍遷到許多不同的能級,2s能級只是其中之一,只有少數原子處於這一狀態。其它能級的原子向基態躍遷時,幅射的大都是紅外光波。

擴充套件資料

氦氖(he-ne)鐳射器的結構一般由放電管和光學諧振腔所組成。鐳射管的中心是一根毛細玻璃管,稱作放電管(直徑為1mm左右);外套為儲氣部分(直徑約45mm);a是鎢棒,作為陽極;k是鉬或鋁製成的圓筒,作為陰極。

殼的兩端貼有兩塊與放電管垂直並相互平行的反射鏡,構成平凹諧振腔。兩個鏡版都鍍以多層介質膜,一個是全反射鏡,通常鍍17層膜。交替地真空蒸氟化鎂(mgf2與硫化鋅(zns)。

另一鏡作為輸出鏡,通常鍍7層或9層膜(由最佳透過率決定)。

氦氖鐳射器已經被人們應用得非常普遍。但氦氖鐳射器又存在一定的缺點,鐳射器的效率較低,功率也不夠大。

所以在鐳射外科手術、鑽孔、切割、焊接等這些行業中,人們現在大多換成採用 co2鐳射器、脈衝鐳射器或者是半導體鐳射器等大功率鐳射器。

因為氦氖鐳射器具有工作性質穩定、使用壽命比較長的特點,因而現在對於氦氖鐳射器在流速和流量測量方面得到了更加普遍的開發和利用,同時在精密計量方面的應用也非常廣泛。

4樓:匿名使用者

我們通常把發光的物體叫做光源,如太陽、電燈、燃燒的蠟燭等。光具有能量,它可以

使物體變熱,使照相底片感光,這就是能的轉換現象。光能含在光束中,光束射入人的眼睛,

才引起人的視覺,所以我們能夠看到光源發射的光。那麼我們為什麼還能看到不發光的 物體

呢?是因為光源發射的光照射到它們,不發光的物體受光後,向四面八方漫反射的光射 入了

我們的眼睛,所以我們也能看到不發光的物體。

產生鐳射的光源,和普通的光源明顯不同。如普通白熾燈光源是通過電流加熱鎢絲的 原

子到激發態,處於激發態的原子不斷地自發輻射而發光。這種普通的光源具有很大的散射 性

和漫射性,不能控制形成集中的光束,也就不能應用於鐳射印表機。鐳射印表機所需要的 激

光光束必須具有以下特性:

①高方向性。發出的光束在一定的距離內沒有散射和漫射。

②高單色性。純白光由七色光組成。

③高亮度,有利於光束的集中並帶有很高的物理能量。

④高相干性,容易疊加和分離。 鐳射器是鐳射掃描系統的光源,具有方向性好、單色性

強、相干性高及能量集中、便於 調製和偏轉的特點。 早期生產的鐳射印表機多采用氦-氖(

he-ne)氣體鐳射器,其波長為632.8μm,其特點是 輸出功率較高、體積大、是壽命長(一

般大於1萬小時) 效能可靠,噪音低,輸出功率大。但是因為體積太大,現在基本已淘汰。現

代鐳射印表機都 採用半導體鐳射器,常見的是鎵砷-鎵鋁砷(caas-caalas)系列,所發射出

的鐳射束波長一 般為近紅外光(λ=780μm),可與感光硒鼓的波長靈敏度特性相匹配。半

導體鐳射器體積 小、成本低,可直接進行內部調製,是輕便型臺式鐳射印表機的光源。

鐳射印表機

鐳射掃描是用來產生非常小的高精度光點,用於高質量的文字及影象的印刷,常用的激 光掃

描系統工作原理是:在工作物質兩端設定兩塊相互平行的反射鏡(柵極),這兩塊反射 鏡之

間構成了一個諧振腔。諧振腔的一塊反射鏡為全反射鏡,另一塊為半反射鏡,當工作物 質受

激,原子自發輻射的光子在諧振腔內不斷地來回反射,輻射出的光子不斷增加。當諧振 腔內

疊加的光子增加到一定量時,就會穿透半反射的反射鏡面發出一束非常強的光,這就是 鐳射

。這樣發出的光束非常集中,幾乎沒有散射,只要我們利用控制技術將光波波長控制在 700~

900μm(奈米),這樣所產生的鐳射就可以滿足鐳射印表機感光鼓的**需要。

現代所用的半導體鐳射器,通常採用鐳射二極體,它的原理與普通的二極體極為相似,

如都有一對pn結,當電壓和電流加到鐳射二極體上時,p型半導體材料中的空穴和n型材料中

的自由電子產生相對運動, pn結處載流子的密度增加非常大,自由電子和空穴重新複合,

因而產生受激輻射,釋放出具有鐳射特性的光子,由鐳射器諧振腔內的反射鏡反射,透過激

光孔和孔內聚焦鏡,射出鐳射束。

從鐳射的產生可以看出,一條鐳射束只包括一種主要波長的光線,它是單色的。每一 條

光線都沿一個方向傳播,以相互疊加的方式結合,我們稱之為"相干性"。這個特性使激 光以

一條極細的光束射到一個靶上,而幾乎沒有散射。而每條鐳射束就像槍膛裡射出的子彈 ,每

顆子彈只能在靶上打一個孔。如果要打出一個"一"字,就要射出很多的子彈,沿"一 "字方向

打出很多的孔,形成一個"一"字點的橫向排列,這就是我們所說的"點陣排列" ,是後面要講

"點陣影象"的技術基礎。

鐳射印表機的**資訊,亦是由點陣組成。印刷質量要求越高,組成一個字元的點陣亦

越多。鐳射掃描的點陣形成有四種方法。單線掃描:將一行字元的每一行的點陣資訊,送至

掃描器中進行掃描,稱為單線掃描。多線順序偏轉掃描:高頻訊號發生器依次產生 9個不同的

頻率,依據佈雷格衍射原理,它們在偏轉調製器中會產生9條偏轉角不同的掃描線 ,接著轉鏡

旋轉一個微小角度,掃描出從左至右的點陣資訊。由於這種方法只需轉鏡轉過一個微小的角度

,它相當於單線掃描方法的1/132,即可形成1個字,故又稱小光柵掃描。 多線同時偏轉掃描

:是指在高頻驅動電路中同時產生9個不同的頻率,經合成後送至偏轉 調製器中。多線同時偏

轉多次掃描:這種方法與多線同時偏轉掃描屬同一類,只是從1個字 符的形成上有所區別。即

在掃描高點陣字元時,一個完整的字元是分成多次掃描完成的。 圖形資訊的點陣形成與字元

的點陣形成基本相似。

5樓:月似當時

(1)通過氦原子的協助,使氖原子的兩個能級實現粒子數反轉;

(2)光泵:通過強光照射工作物質而實現粒子數反轉造成產生鐳射的條件;

(3)光學共振腔:由放置在氦氖鐳射器兩端的兩個相互平行的反射鏡組成。當一些氖原子在實現了粒子數反轉的兩能級間發生躍遷,輻射出平行於鐳射器方向的光子時,這些光子將在兩反射鏡之間來回反射,於是就不斷地引起受激輻射,很快地就產生出相當強的鐳射。

這兩個互相平行的反射鏡,一個反射率接近100%,即完全反射。另一個反射率約為98%,鐳射就是從後一個反射鏡射出的。

6樓:流殤空心

回答的名詞根本不專業

鐳射原理及應用簡介

7樓:藍鯨的呻吟

鐳射鐳射的最初中文名叫做「鐳射」、「萊塞」,是它的英文名稱laser的音譯,是取自英文light amplification by stimulated emission of radiation的各單詞的頭一個字母組成的縮寫詞。意思是「受激輻射的光放大」。

什麼叫做「受激輻射」?它基於偉大的科學家愛因斯坦在2023年提出了的一套全新的理論。這一理論是說在組成物質的原子中,有不同數量的粒子(電子)分佈在不同的能級上,在高能級上的粒子受到某種光子的激發,會從高能級跳到(躍遷)到低能級上,這時將會輻射出與激發它的光相同性質的光,而且在某種狀態下,能出現一個弱光激發出一個強光的現象。

這就叫做「受激輻射的光放大」,簡稱鐳射。鐳射主要有四大特性:鐳射高亮度、高方向性、高單色性和高相干性。

鐳射的高亮度:固體鐳射器的亮度更可高達1011w/cm2sr。不僅如此,具有高亮度的鐳射束經透鏡聚焦後,能在焦點附近產生數千度乃至上萬度的高溫,這就使其可能可加工幾乎所有的材料。

鐳射的高方向性:鐳射的高方向性使其能在有效地傳遞較長的距離的同時,還能保證聚焦得到極高的功率密度,這兩點都是鐳射加工的重要條件

鐳射的高單色性:由於鐳射的單色性極高,從而保證了光束能精確地聚焦到焦點上,得到很高的功率密度。

鐳射的高相干性:相干性主要描述光波各個部分的相位關係。正是鐳射具有如上所述的奇異特性因此在工業加工中得到了廣泛地應用。

目前鐳射已廣泛應用到鐳射焊接、鐳射切割、鐳射打孔(包括斜孔、異孔、膏藥打孔、水鬆紙打孔、鋼板打孔、包裝印刷打孔等)、鐳射淬火、鐳射熱處理、鐳射打標、玻璃內雕、鐳射微調、鐳射光刻、鐳射制膜、鐳射薄膜加工、鐳射封裝、鐳射修復電路、鐳射佈線技術、鐳射清洗等。

經過30多年的發展,鐳射現在幾乎是無處不在,它已經被用在生活、科研的方方面面:鐳射鍼灸、鐳射裁剪、鐳射切割、鐳射焊接、鐳射淬火、鐳射唱片、鐳射測距儀、鐳射陀螺儀、鐳射鉛直儀、鐳射手術刀、鐳射炸彈、鐳射雷達、鐳射槍、鐳射炮……,在不久的將來,鐳射肯定會有更廣泛的應用。

鐳射**是一種利用定向發射的鐳射束直接毀傷目標或使之失效的定向能**。根據作戰用途的不同,鐳射**可分為戰術鐳射**和戰略鐳射**兩大類。**系統主要由鐳射器和跟蹤、瞄準、發射裝置等部分組成,目前通常採用的鐳射器有化學鐳射器、固體鐳射器、co2鐳射器等。

鐳射**具有攻擊速度快、轉向靈活、可實現精確打擊、不受電磁干擾等優點,但也存在易受天氣和環境影響等弱點。鐳射**已有30多年的發展歷史,其關鍵技術也已取得突破,美國、俄羅斯、法國、以色列等國都成功進行了各種鐳射打靶試驗。目前低能鐳射**已經投入使用,主要用於干擾和致盲較近距離的光電感測器,以及攻擊人眼和一些增強型觀測裝置;高能鐳射**主要採用化學鐳射器,按照現有的水平,今後5—10年內可望在地面和空中平臺上部署使用,用於戰術防空、戰區反導和反衛星作戰等。

鐳射的其它特性:

鐳射有很多特性:首先,鐳射是單色的,或者說是單頻的。有一些鐳射器可以同時產生不同頻率的鐳射,但是這些鐳射是互相隔離的,使用時也是分開的。

其次,鐳射是相干光。相干光的特徵是其所有的光波都是同步的,整束光就好像一個「波列」。再次,鐳射是高度集中的,也就是說它要走很長的一段距離才會出現分散或者收斂的現象。

鐳射(laser)是上實際60年代發明的一種光源。laser是英文的「受激放射光放大」的首字母縮寫。鐳射器有很多種,尺寸大至幾個足球場,小至一粒稻穀或鹽粒。

氣體鐳射器有氦-氖鐳射器和氬鐳射器;固體鐳射器有紅寶石鐳射器;半導體鐳射器有鐳射二極體,像cd機、***機和cd-rom裡的那些。每一種鐳射器都有自己獨特的產生鐳射的方法。

鐳射技術

鐳射具有單色性好、方向性強、亮度高等特點。現已發現的鐳射工作物質有幾千種,波長範圍從軟x射線到遠紅外。 鐳射技術的核心是鐳射器,鐳射器的種類很多,可按工作物質、激勵方式、運轉方式、工作波長等不同方法分類。

根據不同的使用要求,採取一些專門的技術提高輸出鐳射的光束質量和單項技術指標,比較廣泛應用的單元技術有共振腔設計與選模、倍頻、調諧、q開關、鎖模、穩頻和放大技術等。

為了滿足軍事應用的需要,主要發展了以下5項鐳射技術:①鐳射測距技術。它是在軍事上最先得到實際應用的鐳射技術。

20世紀60年代末,鐳射測距儀開始裝備部隊,現已研製生產出多種型別,大都採用釔鋁石榴石鐳射器,測距精度為±5米左右。由於它能迅速準確地測出目標距離,廣泛用於偵察測量和**火控系統。②鐳射制導技術。

鐳射制導**精度高、結構比較簡單、不易受電磁干擾,在精確制導**中佔有重要地位。70年代初,美國研製的鐳射制導航空炸彈在越南戰場首次使用。80年代以來,鐳射制導導彈和鐳射制導炮彈的生產和裝備數量也日漸增多。

③鐳射通訊技術。鐳射通訊容量大、保密性好、抗電磁干擾能力強。光纖通訊已成為通訊系統的發展重點。

機載、星載的鐳射通訊系統和對潛艇的鐳射通訊系統也在研究發展中。④強鐳射技術。用高功率鐳射器製成的戰術鐳射**,可使人眼致盲和使光電探測器失效。

利用高能鐳射束可能摧毀飛機、導彈、衛星等軍事目標。用於致盲、防空等的戰術鐳射**,已接近實用階段。用於反衛星、反洲際彈道導彈的戰略鐳射**,尚處於探索階段。

⑤鐳射模擬訓練技術。用鐳射模擬器材進行軍事訓練和作戰演習,不消耗彈藥,訓練安全,效果逼真。現已研製生產了多種鐳射模擬訓練系統,在各種**的射擊訓練和作戰演習中廣泛應用。

此外,鐳射核聚變研究取得了重要進展,鐳射分離同位素進入試生產階段,鐳射引信、鐳射陀螺已得到實際應用。

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